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PVDPECVD

PVDPECVD

    PVD/PECVD是真空的过程,也称为等离子体工艺(PECVD法或 溅射),在真空室中晶圆片被涂层防反射膜(SiN)。需要全面优化 工艺参数确保沉积层SiN的最佳化。这可以提高模块的效率, 设备需要安全稳定运行。

课   题

    由于真空管中产生烟雾会使普通的光电传感器在检测过程中产生一些模糊的点,造成误检测。

解决方案

    OMRON ZS是一个结合了智能和耐真空反射的传感器,能够稳定测量。E3C-LD传感器加上E3X-DA11AT-S放大器能够透过玻璃窗口检测硅片/玻璃片。

    ZS/E3X易维护并能够稳定测量较长时 间,降低了传感器误检测率,提高了设备可靠性和稳定性

具体咨询方案

随着产品流程的自动化和全球化,半导体和FPD生产商对于生产安全、质量和环境的要求也越来越高。通过长期与拥有SEMI等影响力的机器制造商合作,我们已积累足够知识和经验来提供您所需的解决方案。

电话咨询:86-21-60230333

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技术支持:针对客户的需求为其提供整体解决方案为客户提供安装指导,解答客户来电咨询的产品技术问题。

售后服务:回访客户产品使用情况,听取客户意见或建议,提高业务人员综合服务水平。

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