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Solution

解决方案

原子层沉积设备上的系统控制方案

利用控制技术，提升原子层
沉积设备的性能

  • 半导体
  • 加工
  • FA自动化设备

设备介绍

原子层沉积（ALD）是一种以准单原子层形式逐层周期性生长的薄膜沉积技术。ALD设备凭借其原子级别的精确控制能力、优异的薄膜覆盖性以及超薄膜厚的均匀性，为逻辑芯片和存储芯片的介质层等关键工艺提供先进的解决方案。

课题

1. 如何在石英腔体内非接触的情况下，检测出机械手晶圆位置。

2. 如何实现大数据配方下发功能（配方数据量约为2万个字）。

解决方案

1. 通过环网技术实现远程模块环网冗余，防止因模块断线引起的物料损失。NX502+第三方摄像头实现传送机构的程序及视频全流程监测，上位机FINS大数据配方下发功能+逻辑控制配合下位PLC执行方案适配ALD控制系统。

2. FINS一次下发1000个字，通过分段下发方式来完成，如果某段发送失败（通过FINS指令反馈代码）则重新发送该段代码。PLC无需编写通讯程序，只需要上位机按FINS协议开发。

系统配置

系统架构由工控机PC与欧姆龙NJ系列控制器+晶圆搬运机械手组成。其中，PC为上位机，NJ+ECC+ID+OD+AD+DA为下位执行机构，两者通过交换机，以EtherNET(FINS)交互式通讯，实现整个系统的全数字控制。

实现价值

【经营层】

■ 依托专项技术能力，助力客户实现价值增长，促进商业机会的有效转化。

【管理层】

■ 通过实时数据分析赋能生产全流程，协同探索生产效率提升、成本结构优化与产品品质保障的可持续发展路径。

【工程师层】

■ 采用FINS大数据传输控制技术，无需复杂编程即可实现大规模配方数据的高效传输，显著缩短客户开发周期，完成系统的全数字化控制部署。

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