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Solution
半导体等离子清洗机的引线框架突出检测应用
E3NC拥有1级激光光源,可通过精密光学系统控制光斑直径≤2mm,有效覆盖引线框架微米级变形区域,确保引线框架弯曲浮起的稳定检测。
E3NC采用同轴型检测头,消除因框架表面弯曲引发的反射光路径偏移,避免检测时的干扰。
E3NC备有网络型放大器,方便导入并监控传感器实时状态,并进行批量快速的传感器设置。
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