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欧姆龙全球

Solution

解决方案

ECVD设备腔体的温度均衡控制方案

使用温度控制单元,自带外部干扰抑
制功能,实现腔内高效高精度控温

  • 提升设备性能
  • PV
  • 维保

应用介绍

【行业】PV

【设备】PECVD

【用途】在太阳能电池表面沉积薄膜,提高电池的效率和性能

应用场景

单台设备分为5个炉管,每个炉管分为6个温区,通过串级控制实现对腔体内部的控温。

解决课题

1、关乎镀膜效率的核心数据:升温和回温速度较慢,从0度升到目标500度需要40分钟以上;加入气体以及硅片回温到目标温度需要15分钟。

2、温控精度影响镀膜的均匀度以及电池效率,目前设备只能达到±5℃。

价值提案

核心产品:温度控制单元 NX-TC

价值点1.

自带外部干扰抑制功能,能够针对可预测的外部干扰预先抑制温度变化。实现升温时间(40min→35min)与回温时间(15min→13min)的缩短。

价值点2.

启动时自动调整PID,有效削减繁琐调整的工时。
温控稳定( ±5℃ → ±3℃)

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